應用范圍
· 主要用于超大規模集成電路的前端加工；
· 除硅片表面有機物、金屬沾污帶的清洗；

產品特點
· 超純雙氧水為清洗劑、蝕刻劑的重要組分，可與硫酸、硝酸、氫氟酸、氨水等配制使用。